新一代射频电源:助力先进制程设备工艺控制能力提升

在半导体工艺向2nm及以下节点迈进的重要阶段,等离子体控制的稳定与精度成为良率的核心。本次SEMICON China展会上,北京华丞电子有限公司(简称“华丞电子”)正式发布“新一代射频电源”,展示了在射频核心部件领域的创新突破。

行业痛点:先进制程的严苛挑战

随着芯片制程演进至2nm及Chiplet、3D IC封装技术的发展,传统射频电源在面对复杂等离子体负载时,常出现响应滞后、功率波动大及脉冲控制粗糙等问题,难以满足先进制程对高可靠与一致的苛刻需求。

核心突破:三大技术护城河

华丞电子通过底层架构革新,实现了三大核心突破:

1. 脉冲自适应:采用创新的脉冲自适应原理,可根据等离子阻抗特动态调整过冲幅度,以自适应方式精准点火,既保证点火精准稳定,又提升效率,彰显核心技术创新实力。

2. 秒级快速响应:基于BDA动态算法的扫频技术,响应速度较传统提升100倍,进入秒级。配合多特征融合电弧检测,实现30μs检测延时与10μs抑制时间,能在电弧发生瞬间“主动扑灭”,大幅降低晶圆损伤。

3. 纳米级精准控制:功率精度达到0.1W,配合HALO功能确保能量均匀;实现≤5μs甚至1μs极窄脉冲控制,支持多级脉冲及相位同步,全面适配原子层刻蚀(ALE)等高端工艺。

新一代射频电源:助力先进制程设备工艺控制能力提升

产品策略:“一门三杰”灵活定制

基于同一硬件,华丞电子推出“自适应版”、“标准版”、“衡版”三种配置射频电源。客户可灵活选择VDMOS或LDMOS模块,搭配不同合成技术。产品频率覆盖400kHz至60MHz,功率横跨1.2kW至50kW,全面覆盖从成熟制程到先进制程的各种需求。

生态协同:首发一体化方案

华丞电子首发“射频电源+匹配器”一体化协同解决方案。通过打破设备间“黑盒”,实现毫秒级阻抗匹配协同与动态功率分配,将独立部件整合为智能系统。此举不仅简化了产线调试,更从系统层面提升了工艺窗口范围与良率。

关于华丞电子

北京华丞电子有限公司部坐落于北京亦庄经济技术开发区,拥有三大研发生产基地,面积超10万方米。核心团队在半导体行业深耕20余年,深刻理解高端工艺装备对零部件的需求及精密控制底层技术,他们在设计和制造高精度和高可靠的产品方面拥有丰富的专业经验。

华丞电子为客户提供高能的精密控制解决方案,凭借先进的射频控制、流量控制、压力控制及晶圆传输技术,为半导体、清洁能源、真空工业、生命科学及科学研究五大领域客户创造核心价值。华丞电子提供通过CE-EMC、RoHS、UL、SEMI S2、SEMI F47等认证的标准化产品系列,同时可根据客户实际需求进行定制化开发,兼顾了产品规范与应用灵活

新一代射频电源:助力先进制程设备工艺控制能力提升

华丞电子研发团队现有300余名工程师,其中70%具备硕士及以上学历,依托全链条自主可控的研发制造体系,产品从研发设计到零部件加工,再到最终交付的每个环节,都实现了严格的内控管理和高效的质量溯源。

华丞电子在国内设有10个服务中心及网点,覆盖主要区域,能够快速响应客户需求,在多个领域拥有丰富的技术支持经验,能够提供售前产品选型、售后维修及技术支持等全方位服务。

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