新一代射频电源:助力先进制程设备工艺控制能力提升

在半导体工艺向2nm及以下节点迈进的重要阶段,等离子体控制的稳定性与精度成为良率的核心。本次SEMICON China展会上,北京华丞电子有限公司(简称“华丞电子”)正式发布“新一代射频电源”,展示了在射频核心部件领域的创新突破。

行业痛点:先进制程的严苛挑战

随着芯片制程演进至2nm及Chiplet、3D IC封装技术的发展,传统射频电源在面对复杂等离子体负载时,常出现响应滞后、功率波动大及脉冲控制粗糙等问题,难以满足先进制程对高可靠性与一致性的苛刻需求。

核心突破:三大技术护城河

华丞电子通过底层架构革新,实现了三大核心突破:

1. 脉冲自适应:采用创新性的脉冲自适应原理,可根据等离子阻抗特性动态调整过冲幅度,以自适应方式精准点火,既保证点火精准稳定,又提升效率,彰显核心技术创新实力。

2. 微秒级快速响应:基于BDA动态算法的扫频技术,响应速度较传统提升100倍,进入微秒级。配合多特征融合电弧检测,实现30μs检测延时与10μs抑制时间,能在电弧发生瞬间“主动扑灭”,大幅降低晶圆损伤。

3. 纳米级精准控制:功率精度达到0.1W,配合HALO功能确保能量均匀;实现≤5μs甚至1μs极窄脉冲控制,支持多级脉冲及相位同步,全面适配原子层刻蚀(ALE)等高端工艺。

新一代射频电源:助力先进制程设备工艺控制能力提升

产品策略:“一门三杰”灵活定制

基于同一硬件平台,华丞电子推出“自适应版”、“标准版”、“平衡版”三种配置射频电源。客户可灵活选择VDMOS或LDMOS模块,搭配不同合成技术。产品频率覆盖400kHz至60MHz,功率横跨1.2kW至50kW,全面覆盖从成熟制程到先进制程的各种需求。

生态协同:首发一体化方案

华丞电子首发“射频电源+匹配器”一体化协同解决方案。通过打破设备间“黑盒”,实现毫秒级阻抗匹配协同与动态功率分配,将独立部件整合为智能系统。此举不仅简化了产线调试,更从系统层面提升了工艺窗口范围与良率。

关于华丞电子

北京华丞电子有限公司总部坐落于北京亦庄经济技术开发区,拥有三大研发生产基地,总面积超10万平方米。核心团队在半导体行业深耕20余年,深刻理解高端工艺装备对零部件的需求及精密控制底层技术,他们在设计和制造高精度和高可靠性的产品方面拥有丰富的专业经验。

华丞电子为客户提供高性能的精密控制解决方案,凭借先进的射频控制、流量控制、压力控制及晶圆传输技术,为半导体、清洁能源、真空工业、生命科学及科学研究五大领域客户创造核心价值。华丞电子提供通过CE-EMC、RoHS、UL、SEMI S2、SEMI F47等认证的标准化产品系列,同时可根据客户实际需求进行定制化开发,兼顾了产品规范性与应用灵活性。

新一代射频电源:助力先进制程设备工艺控制能力提升

华丞电子研发团队现有300余名工程师,其中70%具备硕士及以上学历,依托全链条自主可控的研发制造体系,产品从研发设计到零部件加工,再到最终交付的每个环节,都实现了严格的内控管理和高效的质量溯源。

华丞电子在国内设有10个服务中心及网点,覆盖主要区域,能够快速响应客户需求,在多个领域拥有丰富的技术支持经验,能够提供售前产品选型、售后维修及技术支持等全方位服务。

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